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電子元器件生產用純水設備，目前純水水質已成為影響電子元器件產品質量、生產成品率及生產成本的重要因素之一，水質要求也越來越高。在電子元器件生產中，純水主要用作清洗用水及用來配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產中純水的用途及對水質的要求也不同。狀元王介紹下電子元器件純水設備的解決方案及實例說明。

現以（主要生產陶瓷插芯，阻容元件，陶瓷材料）使用純水設備工程系統的實況，說明純水技術在電子元器件制造中的應用。其純水制造系統工藝流程為：原水-前級超濾--- 一級反滲透--- pH調節---二級反滲透---后級超濾

1、前級超濾

前級UF是用于去除水中的懸濁物、膠體及有機物，降低水的SDI值，確保RO的安全運行。前級UF有5組，每組45根組件，共225根組件，進水280m3/h，透過水250 m3/h，濃縮水排放，回收率約90%。組件直徑5in，長43in，內壓式中空纖維膜，纖維直徑20mil（0.51mm），共有2940根纖維，膜面積132ft2，膜材料為PS（聚砜），截留分子量8萬。超濾前采用5μm保安過濾器。

2、一級RO

水中加入還原劑Na2SO3（加藥量為水中余氯值的1.8倍）以防止余氯氧化腐蝕RO膜，加入防垢劑（NaPO3）6（加藥量為5ppm）以防止CaCO3、CaSO4等在RO膜上結垢，再經5μm 保安過濾器后由高壓泵打進一級RO。一級RO有4組，均為二段。其中三組為每組8根膜容器，呈（5+3）排列，第4組為11根膜容器，呈（8+3）排列，膜容器由FRP（玻璃鋼）制成，每根內裝6個RO元件，總共為210個RO元件，進水250m3/h，透過水188m3/h，濃縮水排放，回收率為75%，脫鹽率＞90%（初始脫鹽率＞99%），操作壓力1.55MPa。RO元件為美國(海德能)公司生產，型號CPA3。元件直徑8in，長40in，卷式膜，膜面積400ft2，膜材料為芳香聚酰胺復合膜，元件脫鹽率≥99.5%。

3、二級RO

一級RO水箱出水中一部分進入A系統，先加NaOH（CP級）調節pH為8.2-8.6，使水中CO2生成HCO3-，被二級RO除去，以減輕混床離子交換的負擔，采用二級RO可以使混床再生周期延長一倍，減少再生酸堿耗量，并可進一步去除TOC和膠體物質。二級RO前采用3μm保安過濾器，二級RO為一組三段，共10根膜容器，按（6+3+1）排列，每根容器內裝6只RO元件，共60只RO元件，進水70m3/h，出水62m3/h，濃水排至超濾水箱，回收率為90%，脫鹽率＞70%(初始脫鹽率＞80%)，RO元件的生產廠、型號與一級RO相同。

4、后級超濾

后級UF是用于去除水中的微粒、微生物、膠體、有機物等的終端過濾設備。

A系統后級UF為3組，每組18支，共54支組件，進水92m3/h，出水90m3/h，濃水排至一級RO水箱，回收率約98%。UF組件為美國Romicon公司生產，型號HF-132-20-PM10，組件直徑5in，長43in，內壓式中空纖維膜，纖維直徑20mil(0.51mm)，共有2940根纖維，膜面積132ft2，膜材料為PS（聚砜），截留分子量1萬。

B系統后級UF為8組，每組9支，共72支組件，進水168m3/h，出水164m3/h，回收率約98%，UF組件制造廠及型號與A系統后級UF相同。

C系統后級UF有3支組件，進水4m3/h，出水3.9m3/h，回收率約98%，UF元件為美國HYDRANAUTICS公司生產，型號4040-FTV-2120，組件直徑3.94in，長40in，卷式膜，膜面積55ft2，膜材料為聚烯烴，截留分子量5萬。

5、微濾

本系統的微濾可分為三類，第一類為前級UF、RO前的保安過濾器，用于去除水中的懸濁物微粒，降低水的SDI值，濾芯為PP（聚丙烯）膜摺迭式濾芯，孔徑為5μm或3μm。第二類在離子交換后，用于濾除離子交換樹脂碎片，濾芯為PP膜摺迭式濾芯，孔徑為1μm。第三類在UV殺菌器后，用于濾除微生物尸體，濾芯為N-6（尼龍6）膜摺迭式濾芯，孔徑為0.45μm或0.2μm。

二、電子元器件生產用純水設備解決方案

1.原水-砂炭過濾器-精密過濾器-原水箱-陽床-陰床-混床(復床)-純水箱-純水泵-后置精密過濾器-用水點

2.原水-砂炭過濾器-精密過濾器-原水箱-反滲透設備-混床(復床)->純水箱-純水泵-后置精密過濾器-用水點

3.原水-砂炭過濾器-精密過濾器-原水箱-反滲透設備-電去離子(EDI)-純水箱-純水泵-后置精密過濾器-用水點

狀元王擁有多項超純水專用膜核心技術，專業量身定制水處理方案，可將水質達到18.2MΩ、溶解氧含量3～10ug/L，完全符合電子元器件生產用水需求。