半導體行業對超純水設備有什么要求？制水流程是怎樣？
超純水設備主要針對電子、半導體、液晶顯示、玻璃鏡片，導光板，手機屏幕、集成電路芯片、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、集成電路需用大量的超純水來清洗半成品、成品，如果所用水質達不到生產工藝用水的要求或者水質不穩定就會影響到清洗效果和使用壽命。特別是電子行業的電子管生產中，如果超純水中混入雜質，就會影響電子的發射，進而影響電子管的放大性能及壽命，用在顯像管和陰極射線管生產中就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。所以每款產品在生產過程中都有嚴格的生產工藝，所以電子產品產品的清洗就需要電子工業用edi超純水設備來滿足生產需求。
半導體超純水設備制水工藝：
預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象。
預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象。
預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(新工藝)。
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